Cumhdach Carbide Sileacain

Tosaíonn an Bioráin Ardaithe Wafer AMAT 0200-03201 seo ó VeTek le graifít ard-íonachta, ansin cuirimid sciath dlúth CVD SiC ar a bharr. Tá sé déanta do chórais epitaxy 300mm agus imoibreoirí EPI Ábhair Fheidhmeach. Cén fáth graifít agus SiC? Láimhseálann graifít teas go han-mhaith. Glacann an ciseal SiC gáis chreimneach agus ní chaitheann sí amach go tapa. An dearadh balla tanaí? Is é sin le haghaidh ardú agus suíomh sliseog níos glaine, níos lú cáithníní, agus saolré níos faide faoi theocht ard. Déanaimid páirteanna graifíte brataithe SiC den chineál céanna freisin do chórais ASM, Aixtron, agus LPE. Ag tnúth le d'fhiosrúchán.

Déanann Vetek Semiconductor iompróirí wafer do chórais VEECO MOCVD, a tógadh go sonrach le haghaidh obair epitaxy LED cosúil le GaN LEDs, soilse gorm-uaine, agus fás domhain UV LED. Tosaíonn na hiompróirí seo le graifít ard-íonachta agus faigheann siad sciath dlúth chomhdhúile sileacain CVD (SiC). Coinníonn an meascán sin suas go maith faoi na teochtaí arda a fheiceann tú i MOCVD - cobhsaíocht theirmeach maith, friotaíocht creimeadh, agus maireann an sciath.

Is comhpháirt graifíte é an Halfmoon a úsáidtear taobh istigh d'imoibreoirí LPE SiC, atá suiteáilte go príomha timpeall crios te an tseomra. Cé nach ndéanann sé teagmháil dhíreach leis an wafer, tá ról fós aige i gcobhsaíocht sreabhadh gáis agus oibriú imoibreora le linn fáis epitaxial. Soláthraíonn VETEK insliú feilte graifíte agus páirteanna graifíte brataithe eile do chórais epitaxy SiC.

Is cuid crua-earraí é an fáinne barr epi SiC 8-orlach d'imoibreoirí leathsheoltóra. Oibríonn sé laistigh de chórais epitaxy Si/Sic agus MOCVD/CVD. Déanann an fáinne seo an teas laistigh den seomra a chobhsú. Rialaíonn sé freisin sreabhadh na ngás. Is é an t-ábhar CVD Silicon Carbide ard-íonachta. Níl na saincheisteanna outgassing de graifít aige. Laghdaíonn sé freisin éilliú cáithníní le linn production.We fáilte roimh do chuid fiosruithe.

Is éard atá i VETEK MOCVD Susceptor Brataithe SiC ná réiteach iompróra beachtais a forbraíodh go sonrach le haghaidh fás epitaxial leathsheoltóra LED agus cumaisc. Léiríonn sé aonfhoirmeacht theirmeach eisceachtúil agus táimhe ceimiceach laistigh de thimpeallachtaí casta MOCVD. Ag baint leasa as dianphróiseas taisce CVD VETEK, táimid tiomanta do chomhsheasmhacht fáis wafer a fheabhsú agus saol seirbhíse na gcomhpháirteanna lárnacha a leathnú, ag soláthar dearbhú feidhmíochta cobhsaí agus iontaofa do gach baisc de do tháirgeadh leathsheoltóra.

Is comhpháirt ríthábhachtach inchaite é Fáinne Fócais Carbide Sileacain Soladach Veteksemicon (SiC) a úsáidtear i bpróisis eitseála leathsheoltóra chun cinn agus eitseáil plasma, áit a bhfuil rialú beacht ar dháileadh plasma, aonfhoirmeacht theirmeach, agus éifeachtaí imeall wafer riachtanach. Déanta as chomhdhúile sileacain soladach ard-íonachta, taispeánann an fáinne fócasaithe seo friotaíocht creimthe plasma eisceachtúil, cobhsaíocht ardteochta, agus táimhe ceimiceach, rud a chumasaíonn feidhmíocht iontaofa faoi choinníollacha próisis ionsaitheach. Táimid ag tnúth le d'fhiosrúchán.