Ceann Cith Graifíte Brataithe le CVD Silicon Carbide (SiC).

Príomhghnéithe

• Ard-íonacht – Déanann an sciath SiC an graifít a shéaladh go hiomlán, agus mar sin ní bheidh aon ghású ná éilliú miotail ann.

• Dáileadh gáis den scoth – Déantar gach ceann cithfholcadh a mheaisíniú chun treoluas comhsheasmhach gáis a sheachadadh trasna an sliseog ar fad.

• Sár-fhriotaíocht chreimthe – ní imoibríonn CVD SiC le halaiginí nó le hiarmhair phróisis. Maireann sé i bhfad níos faide ná graifít nó grianchloch lom.

• Feidhmíocht theirmeach den scoth – Meaitseálann an sciath leathnú teirmeach na graifíte go dlúth, mar sin ní bhíonn aon scoilteadh le linn rampaí teochta tapa.

• Déantúsaíocht chruinn – Bainimid úsáid as meaisínithe CNC agus sciath CVD intí. Coinnítear trastomhais agus patrúin poll de réir lamháltais daingean.

Sonraíochtaí Teicniúla

Feidhmchláir

Úsáidtear na cinn cithfholcadh seo i:

• Córais leathsheoltóra CVD (táirgeadh agus T&F araon)

• Trealamh PECVD – tréleictreach ísealteochta

• Imoibreoirí MOCVD – comhdhúile III-V cosúil le GaN, InP

• Sileacan epitaxy (Si Epi) – le haghaidh feistí cumhachta agus CMOS

• SiC epitaxy – leictreonaic cumhachta ardvoltais

• Fabaí leathsheoltóra cumaisc

• Ardphacáistiú (m.sh., sil-leagan TSV)

• Aon uirlis scannáin thanaí a dteastaíonn dáileoir gáis ard-íonachta atá creimthe aige

Cén Fáth Roghnaigh VETEK?

• Ní cuideachta thrádála muid. Everything – from graphite machining to final CVD SiC coating – is done in‑house. That means we control the quality, lead time, and cost.

• Déantúsaíocht intí iomlán – gan aon iontas seachfhoinsithe

• Ardteicneolaíocht brataithe – CVD SiC dlúth, saor ó phionna

• Tacaíocht shaincheaptha innealtóireachta – seol do líníocht ceann cithfholcadh nó díreach samhail an imoibreora chugainn

• Slabhra soláthair leathsheoltóra iontaofa – táimid ag soláthar fabs agus OEManna le blianta fada

• Ní gá duit dearadh nua a athcháiliú gach uair. Tá cinn cithfholcadh brataithe againn cheana féin le haghaidh go leor ardán coitianta (AMAT, TEL, LAM, ASM, etc.).