Seirbhís Tacaíochta

Soláthraíonn VeTek Semiconductor sliseog agus foshraitheanna aonchriostail ardcháilíochta Nítríde Alúmanam (AlN) d'fheistí leathsheoltóra ultra-leathanbhanda den chéad ghlúin eile. Le bandgap ultra-leathan de thart ar 6.2 eV, seoltacht teirmeach den scoth, insliú leictreachais eisceachtúil, agus meaitseáil laitíse agus leathnú teirmeach den scoth le GaN, tá sliseoga AlN oiriúnach le haghaidh feistí RF ardchumhachta, leictreonaic cumhachta ardvoltais, agus optoelectronics domhain-ultraivialait (DUV).

Is seirbhís theicniúil speisialaithe é Seirbhís Glanadh Gairmiúil VETEK le haghaidh Páirteanna Grafite Brataithe CVD SiC atá deartha le haghaidh susceptors trealaimh Aixtron / Veeco MOCVD agus comhpháirteanna graifíte a úsáidtear i bpróisis epitaxial GaN / AlN / AlGaN. Cuireann ár bpróiseas glantacháin dílseánaigh deireadh le héifeacht cuimhne dromchla go críochnúil, athchóiríonn sé sreabhadh gáis cobhsaí san imoibreoir, agus cosnaíonn sé go docht an sciath 100 µm CVD SiC le caillteanas tiús nialasach iomlán agus iarmhar miotail nialasach.

De réir mar a mhéadaíonn an t-éileamh ar thrasduchtóirí MEMS ard-íogaireachta agus ísealchumhachta le leathnú cumarsáide 5G, feistí leighis beachtas, agus gléasanna inchaite cliste, soláthraíonn ár PZT ar sliseog Si/SOI réiteach ábhartha ríthábhachtach. Trí leas a bhaint as ardphróisis sil-scannáin tanaí ar nós Sol-gel nó sputtering, bainimid amach comhsheasmhacht eisceachtúil agus feidhmíocht piezoelectric níos fearr ar fhoshraitheanna sileacain. Feidhmíonn na sliseoga seo mar chroílár bunúsach do chomhshó fuinnimh leictrimheicniúla.

Is próiseas lárnach é fás criostail chomhdhúile sileacain i ndéantúsaíocht feistí leathsheoltóra ardfheidhmíochta. Cinneann cobhsaíocht, cruinneas, agus comhoiriúnacht trealaimh fáis criostail go díreach cáilíocht agus toradh tinní chomhdhúile sileacain. Bunaithe ar shaintréithe na teicneolaíochta Iompar Glais Fhisiciúil (PVT), tá foirnéis téimh friotaíochta forbartha ag Veteksemi le haghaidh fás criostail chomhdhúile sileacain, rud a chuireann ar chumas fás cobhsaí de chriostail chomhdhúile sileacain 6-orlach, 8-orlach, agus 12-orlach le comhoiriúnacht iomlán le córais seoltacha, leath-inslithe agus ábhar N-cineál. Trí rialú beacht ar theocht, brú agus cumhacht, laghdaítear go héifeachtach lochtanna criostail mar EPD (Etch Pit Density) agus BPD (Basal Plane Dislocation), agus léiríonn sé tomhaltas ísealfhuinnimh agus dearadh dlúth chun freastal ar na caighdeáin arda de tháirgeadh tionsclaíoch ar scála mór.

Is ábhar ardfheidhmíochta é sciodar snasta CMP (Sciodar Snasú Meicniúil Ceimiceach) a úsáidtear i ndéantúsaíocht leathsheoltóra agus i bpróiseáil ábhar cruinneas. Is é an phríomhfheidhm atá aige ná maoile fíneáil agus snasta dromchla an ábhair a bhaint amach faoi éifeacht sineirgisteacha creimeadh ceimiceach agus meilt mheicniúil chun freastal ar na ceanglais maoile agus cáilíochta dromchla ag leibhéal na nana. Ag tnúth le do chomhairliúchán breise.

Mar phríomh -mhonaróirí agus soláthróirí sliseog Sic na Síne, is uirlis speisialaithe i ndéantúsaíocht leathsheoltóra é Vetek Semiconductor CVD SIC SIC. Tá fáilte roimh do chuid fiosruithe breise.