Cén fáth a bhfaigheann sciath sic an oiread sin airde? - Semiconductor Vetek

Le blianta beaga anuas, le forbairt leanúnach an tionscail leictreonaic,an leathsheoltóir tríú glúintá ábhair anois ina fórsa tiomána nua d'fhorbairt an tionscail leathsheoltóra. Mar ionadaí tipiciúil de na hábhair leathsheoltóra tríú glúin, baineadh úsáid as SiC go forleathan sa réimse déantúsaíochta leathsheoltóra, go háirithe iréimse teirmeachábhair, mar gheall ar a airíonna fisiceacha agus ceimiceacha den scoth.

Mar sin, cad é go díreach sciath sic? Agus cad éSciath sic cvd?

Is cumaisc chomhfhiúsacha bannaithe é SiC le cruas ard, seoltacht teirmeach den scoth, comhéifeacht leathnú teirmeach íseal, agus friotaíocht ard creimeadh. Is féidir lena seoltacht theirmeach 120-170 W/m·K a bhaint amach, rud a thaispeánann seoltacht theirmeach den scoth i diomailt teasa comhpháirteanna leictreonacha. Ina theannta sin, níl an comhéifeacht leathnú teirmeach de chomhdhúile sileacain ach 4.0 × 10-6 / K (sa raon 300-800 ℃), rud a chuireann ar a chumas cobhsaíocht tríthoiseach a choinneáil i dtimpeallachtaí teocht ard, ag laghdú go mór dífhoirmiúchán nó teip de bharr teirmeach. strus. Tagraíonn sciath chomhdhúile sileacain do sciath déanta de chomhdhúile sileacain a ullmhaítear ar dhromchla páirteanna trí thaisceadh gaile fisiceach nó ceimiceach, spraeáil, etc.  

sil-leagan ceimiceach gaile (CVD)Faoi láthair is í an phríomhtheicneolaíocht chun sciath SIC a ullmhú ar dhromchlaí foshraithe. Is é an príomhphróiseas ná go ndéantar sraith imoibrithe fisiciúla agus ceimiceacha ar dhromchla an tsubstráit, agus ar deireadh taisctear an sciath SIC CVD ar dhromchla an tsubstráit.

Sonraí SEM de Chlúdach SIC CVD

Ós rud é go bhfuil sciath chomhdhúile sileacain chomh cumhachtach, ina bhfuil ról ollmhór ag naisc déantúsaíochta leathsheoltóra? Is é an freagra na gabhálais táirgeachta epitaxy.

Tá buntáiste lárnach ag an sciath SIC as an bpróiseas fáis eipiciúil a mheaitseáil go mór i dtéarmaí airíonna ábhartha. Seo a leanas na róil thábhachtacha agus na cúiseanna a bhaineann le sciath sic iSIC SUPITAXIAL SUPTORTOR:

1. Seoltacht ard teirmeach agus friotaíocht ardteochta

Is féidir le teocht na timpeallachta fáis eipiciúil teacht os cionn 1000 ℃. Tá seoltacht theirmeach an -ard ag sciath SIC, ar féidir leis teas a dhíscaoileadh go héifeachtach agus a chinntiú go bhfuil aonfhoirmeacht teochta an fháis eipiciúil.

2. Cobhsaíocht cheimiceach

Tá táimhe ceimiceach den scoth ag sciath SiC agus is féidir leis an creimeadh ag gás creimneach agus ceimiceáin a sheasamh, ag cinntiú nach n-imoibríonn sé go diúltach le himoibreoirí le linn fáis epitaxial agus go gcoimeádann sé sláine agus glaineacht an ábhair.

3. Tairiseach laitíse a mheaitseáil

I bhfás eipiciúil, is féidir sciath SIC a mheaitseáil go maith le héagsúlacht ábhar epitaxial mar gheall ar a struchtúr criostail, ar féidir leis neamhréir laitíse a laghdú go suntasach, rud a laghdaíonn lochtanna criostail agus feabhas a chur ar cháilíocht agus ar fheidhmíocht an chiseal eipiciúil.

4. Comhéifeacht um Leathnú Teirmeach Íseal

Tá comhéifeacht leathnaithe teirmeach íseal ag sciath SiC agus tá sé sách gar do chomhéifeacht na n-ábhar epitaxial coitianta. Ciallaíonn sé seo, ag teochtaí arda, nach mbeidh aon strus mór idir an bonn agus an sciath SiC mar gheall ar an difríocht i gcomhéifeachtaí leathnú teirmeach, ag seachaint fadhbanna cosúil le feannadh ábhar, scoilteanna nó dífhoirmiúchán.

5. Cruas ard agus friotaíocht caitheamh

Tá cruas an-ard ag sciath SiC, mar sin is féidir le sciath é ar dhromchla an bonn epitaxial a fhriotaíocht chaitheamh a fheabhsú go suntasach agus a shaol seirbhíse a leathnú, agus ag an am céanna a chinntiú nach ndéantar damáiste do chéimseata agus maoile dromchla an bhoinn le linn an phróisis epitaxial.

Trasghearradh agus íomhá dromchla de bhratú SiC

Chomh maith le bheith ina chúlpháirtí le haghaidh táirgeadh epitaxial,Tá buntáistí suntasacha ag baint le sciath SIC sna réimsí seo freisin:

Iompróirí sliseog leathsheoltóra：Le linn próiseála leathsheoltóra, teastaíonn glaineacht agus cruinneas an -ard ó láimhseáil agus i bpróiseáil sliseoga. Is minic a úsáidtear sciath SIC in iompróirí wafer, lúibíní agus tráidirí.

Iompróir sliseog

Fáinne réamhthéite：Tá an fáinne réamhthéamh suite ar fháinne seachtrach an tráidire tsubstráit Si epitaxial agus úsáidtear é le haghaidh calabrú agus téimh. Cuirtear sa seomra imoibrithe é agus ní théann sé i dteagmháil go díreach leis an wafer.

  Fáinne Réamhthéite

Is é an chuid leath-ghealach uachtarach iompróir gabhálais eile de sheomra imoibriúcháin anFeiste epitaxy sic, atá faoi rialú teochta agus suiteáilte sa seomra imoibrithe gan teagmháil dhíreach leis an wafer.Tá an chuid íochtair leath-ghealach ceangailte le feadán Grianchloch a thugann isteach gás chun an rothlú bonn a thiomáint. Tá sé rialaithe ag teocht, suiteáilte sa seomra imoibrithe agus ní thagann sé i dteagmháil dhíreach leis an wafer.

An chuid uachtarach den leathghealach

Ina theannta sin, tá breogán leáite ann le haghaidh galú i dtionscal leathsheoltóra, geata feadán leictreonach ardchumhachta, scuab a théann i dteagmháil leis an rialtóir voltais, monacróma graifít le haghaidh x-gha agus neodrón, cruthanna éagsúla de fhoshraitheanna graifíte agus de fhoshraitheanna graifíte agus sciath feadán ionsú adamhach, etc., tá ról níos tábhachtaí ag sciath SiC.

Cén fáth RoghnaighSé leathsheoltóra?

Ag VeTek Semiconductor, comhcheanglaíonn ár bpróisis déantúsaíochta innealtóireacht bheachtais le hábhair chun cinn chun táirgí brataithe SiC a tháirgeadh a bhfuil feidhmíocht agus marthanacht níos fearr acu, mar shamplaSealbhóir sliseog brataithe SICMar sin, sciath Epi UndertakerGlacadóir Epi LED UV, Sciath ceirmeach cairbíd sileacainisSIC CATOATING ALD SUCKORTOR. Is féidir linn freastal ar riachtanais shonracha an tionscail leathsheoltóra chomh maith le tionscail eile, ag soláthar sciath SIC saincheaptha ardcháilíochta do chustaiméirí.

Má tá aon fhiosrúcháin agat nó má tá sonraí breise uait, ná bíodh drogall ort teagmháil a dhéanamh linn.

Mob/Whatsapp: +86-180 6922 0752

Ríomhphost: anny@veteksemi.com