Táirgí
Suimitheoir Graifíte Brataithe CVD SiC le haghaidh Iompróir Wafer
  • Suimitheoir Graifíte Brataithe CVD SiC le haghaidh Iompróir WaferSuimitheoir Graifíte Brataithe CVD SiC le haghaidh Iompróir Wafer

Suimitheoir Graifíte Brataithe CVD SiC le haghaidh Iompróir Wafer

Is comhpháirt tacaíochta sliseog ardfheidhmíochta é VETEK CVD SiC Susceptor Graifít Brataithe le haghaidh Iompróir Wafer atá deartha le haghaidh próisis epitaxy leathsheoltóra. Úsáideann an táirge graifít ard-íonachta mar an tsubstráit agus tá sé brataithe le ciseal aonfhoirmeach de chomhdhúile sileacain CVD (SiC), ag soláthar cobhsaíocht theirmeach den scoth, friotaíocht ceimiceach, agus rialú cáithníní. Mar chomhpháirt criticiúil susceptor graifít, tacaíonn sé go díreach le sliseog taobh istigh den seomra imoibrithe agus cabhraíonn sé a choimeád ar bun dáileadh teochta aonfhoirmeach agus cobhsaí coinníollacha fáis epitaxial.

1. Buntáistí Táirge


  • Ábhar Ard-íonachta:Laghdaíonn an t-ábhar graifíte de ghrád leathsheoltóra agus an struchtúr dlúth brataithe SiC rioscaí éillithe agus feabhsaítear iontaofacht an tsubstaint graifíte atá brataithe le CVD SiC.
  • Comhionannas Teirmeach Sármhaith:Soláthraíonn struchtúr grafite optamaithe agus sciath SiC aistriú teasa cobhsaí agus rialú aonfhoirmeach teochta wafer.
  • Friotaíocht Cheimiceach Sármhaith:Tugann an sciath dlúth SiC friotaíocht láidir i gcoinne gás próisis agus timpeallachtaí creimneach.
  • Saol Seirbhíse Fada:Feabhsaíonn cruas ard agus friotaíocht caitheamh marthanacht faoi choinníollacha epitaxy ardteochta.
  • Giniúint Cháithníneach Íseal:Laghdaíonn dromchla dlúth CVD SiC scaoileadh na gcáithníní agus feabhsaíonn sé iontaofacht próiseas wafer.
  • Cumas Dearaidh Saincheaptha:Ar fáil i méideanna, struchtúir, agus cumraíochtaí éagsúla de réir riachtanais trealaimh.



2. Sonraíochtaí Teicniúla

Mír
Luach Tipiciúil
Ábhar Foshraith
Graifít Ard-íonachta
Ábhar Cumhdach
Carbíd Sileacain CVD (SiC)
Íonacht SiC
≥99.999%
Tiús Cumhdach
100 ± 20 μm (inoiriúnaithe)
Comhionannas Tiús Cumhdaithe
Rialaithe laistigh de 10 μm idir baisceanna
Dlús Cumhdach CVD SiC
3.21 g / cm³
Seoltacht Theirmeach
300 W/m·K
Comhéifeacht Leathnú Teirmeach
4.5 × 10⁻/K

3. Iarratais


  • Próiseas Epitaxy SiC:Úsáidtear an susceptor graifíte mar iompróir wafer i dtrealamh epitaxy SiC, ag tacú le foshraitheanna SiC le linn fáis epitaxial ardteochta.
  • Próiseas Epitaxy Silicon:Feidhmeach in imoibreoirí epitaxial sileacain chun tacú le sliseoga agus chun coinníollacha cobhsaí teirmeacha a chothabháil.
  • MOCVD Epitaxy:Tá fostóirí graifíte VETEK oiriúnach le haghaidh MOCVD, epitaxy LED, GaN epitaxy, epitaxy sileacain, agus próisis déantúsaíochta leathsheoltóra eile a éilíonn aonfhoirmeacht theirmeach den scoth agus cobhsaíocht cheimiceach.
  • Trealamh Déantúsaíochta Leathsheoltóra:Ag luí le hardáin epitaxy éagsúla, lena n-áirítear foirnéisí cothrománacha LPE, Aixtron, NuFlare, agus trealamh leathsheoltóra gaolmhar.



4. Cén Fáth Roghnaigh VETEK?

Soláthraíonn VETEK réitigh susceptor graifíte brataithe CVD SiC saincheaptha a chomhtháthaíonn íonú graifíte, meaisínithe beachtas, sciath CVD, agus cumais iniúchta. Tá ardíonacht, tiús aonfhoirmeach brataithe, feidhmíocht theirmeach den scoth, agus saol seirbhíse fada d’fheidhmchláir iompróra sliseog ag teastáil inár gcuid táirgí súiteora graifíte leathsheoltóra.

Hot Tags: Cumhdóir Graifíte Brataithe CVD SiC, Suímh Ghraifít, Iompróir Wafer Graifíte Brataithe SIC, Susceptor Eipiteacs Leathsheoltóra, Suimdeoir Graifíte MOCVD, Iompróir Wafer sic, Suimdeoir Graifíte CVD SiC
Seol Fiosrúchán
Eolas teagmhála
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Úsáidimid fianáin chun eispéireas brabhsála níos fearr a thairiscint duit, chun anailís a dhéanamh ar thrácht an tsuímh agus chun inneachar a phearsantú. Trí úsáid a bhaint as an suíomh seo, aontaíonn tú lenár n-úsáid a bhaint as fianáin. Beartas Príobháideachta
DiúltaighGlac