Cumhdach Carbide Sileacain

Úsáidtear baffle sciath CVD SIC Vetek go príomha i Si Epitaxy. Is iondúil go n -úsáidtear é le bairillí síneadh sileacain. Comhcheanglaíonn sé an teocht ard agus an chobhsaíocht uathúil atá ag an sciath sciath SIC CVD, a fheabhsaíonn go mór dáileadh aonfhoirmeach an aeir i ndéantúsaíocht leathsheoltóra. Creidimid gur féidir lenár dtáirgí ardteicneolaíocht agus réitigh táirgí ardchaighdeáin a thabhairt duit.

Tá sorcóir graifíte CVD SIC Vetek Semiconductor ríthábhachtach i dtrealamh leathsheoltóra, ag fónamh mar sciath chosanta laistigh de imoibreoirí chun comhpháirteanna inmheánacha a chosaint i suíomhanna ardteochta agus brú. Scríobhann sé go héifeachtach i gcoinne ceimiceán agus teas an -mhór, ag caomhnú sláine an trealaimh. Le caitheamh eisceachtúil agus friotaíocht creimthe, cinntíonn sé fad saoil agus cobhsaíocht i dtimpeallachtaí dúshlánacha. Trí úsáid a bhaint as na clúdaigh seo, cuirtear le feidhmíocht fheiste leathsheoltóra, cuirtear le saolré, agus maolaíonn sé riachtanais chothabhála agus riosca damáiste.

Is comhpháirteanna ríthábhachtacha iad soic sciath SIC CVD a úsáidtear sa phróiseas epitaxy LPE SIC chun ábhair charbide sileacain a thaisceadh le linn déantúsaíochta leathsheoltóra. Is iondúil go ndéantar na soic seo as ábhar carbide sileacain ardteochta agus cobhsaí go ceimiceach chun cobhsaíocht i dtimpeallachtaí próiseála crua a chinntiú. Tá siad deartha le haghaidh sil -leagain aonfhoirmeach, tá ról lárnach acu maidir le cáilíocht agus aonfhoirmeacht na sraitheanna epitaxial a fhástar in iarratais leathsheoltóra a rialú. Cuir fáilte roimh do fhiosrúchán breise.

Is é Cosantóir Cumhdach CVD SIC Vetek Semiconductor a úsáidtear LPE SIC epitaxy, is iondúil go dtagraíonn an téarma "LPE" do epitaxy brú íseal (LPE) i sil -leagan gaile ceimiceach brú íseal (LPCVD). I ndéantúsaíocht leathsheoltóra, is teicneolaíocht thábhachtach próisis é LPE chun scannáin tanaí criostail aonair a fhás, a úsáidtear go minic chun sraitheanna epitaxial sileacain a fhás nó sraitheanna epitaxial leathsheoltóra eile.

Tá Vetek Semiconductor gairmiúil maidir le sciath SIC CVD a dhéanamh, sciath TAC ar ábhar graifít agus sileacain cairbíde. Soláthraímid táirgí OEM agus ODM cosúil le pedestal brataithe SIC, iompróir wafer, chuck wafer, tráidire iompróra sliseog, diosca optional agus mar sin ar. Ó tú go luath.

Sáraíonn Vetek Semiconductor i gcomhoibriú go dlúth le cliaint chun dearaí saincheaptha a dhéanamh le haghaidh fáinne ionraoin sciath sic atá curtha in oiriúint do riachtanais shonracha. Déantar innealtóireacht chúramach ar na fáinne ionraoin SIC seo le haghaidh feidhmeanna éagsúla ar nós trealamh SIC CVD agus epitaxy cairbíde sileacain. Le haghaidh réitigh fáinne ionraoin Sic SIC, ná bíodh drogall ort teagmháil a dhéanamh le Vetek Semiconductor le haghaidh cúnaimh phearsantaithe.