Uasteorainn brataithe CVD SIC

Sé leathsheoltóra Uasteorainn brataithe CVD SICBaineadh úsáid fhorleathan as i réimse na próiseála leathsheoltóra mar gheall ar a fheidhmíocht den scoth. Ní hamháin gur féidir leis an timpeallacht seomra glan a chosaint go héifeachtach, ach éifeachtúlacht táirgthe a fheabhsú agus costais táirgthe a laghdú. Fáiltímid ó chroí roimh do chomhairliúchán.

An ról sonrach atá ag Vetek SemiconductorUasteorainn brataithe CVD SICI réimse na próiseála leathsheoltóra mar seo a leanas:

Cosaint timpeallachta an tseomra glan:

Friththilleadh: Tá dromchla an sciath Sic réidh agus dlúth, agus níl sé éasca ábhar cáithníneach a mhaisiú, a chuireann cosc ​​go héifeachtach ar idirleathadh ábhar cáithníneach i dtimpeallacht an tseomra ghlan agus a chinntíonn íonacht ard an táirge.

Friotaíocht Creimthe Ceimiceach: Is féidir leis an sciath SIC cur in aghaidh creimeadh aigéid láidre, alcaileacha láidre agus ceimiceáin eile, an struchtúr uasteorann a chosaint agus saol na seirbhíse a leathnú.

Rialú statach:

Leictreachas statach a laghdú: Tá seoltacht mhaith ag an sciath SIC, ar féidir leis giniúint agus carnadh leictreachais statach a laghdú go héifeachtach agus an damáiste a bhaineann le leictreachas statach a laghdú go feistí leathsheoltóra.

Bainistíocht theirmeach:

Diomailt teasa: Cuidíonn seoltacht ard teirmeach SIC le teas a dhíscaoileadh go tapa, an teocht a laghdú sa seomra glan, agus timpeallacht oibre seasmhach a sholáthar le haghaidh ionstraimí agus trealaimh bheachtais.

Friotaíocht a chaitheamh.

Sa todhchaí, le forbairt leanúnach ar theicneolaíocht leathsheoltóra,Uasteorainneacha sciath sic cvdúsáidfear é i níos mó réimsí, ag soláthar ráthaíochtaí níos iontaofa chun an tionscal leathsheoltóra a fhorbairt.

Paraiméadar táirge:

Uasteorainn brataithe CVD SICSiopaí léiriúcháin:

Forbhreathnú ar Shlabhra Tionscail Epitaxy na Sliseanna Leathsheoltóra：