Oideas Taiscí Ciseal Adamhach ALD

AlD spásúil, sil-leagan ciseal adamhach scoite go spásúil. Gluaiseann an sliseog idir suíomhanna éagsúla agus tá sé nochta do réamhtheachtaithe éagsúla ag gach suíomh. Is é an figiúr thíos comparáid idir ALD traidisiúnta agus ALD atá scoite amach go spásúil.

ALD sealadach,sil -leagan ciseal adamhach atá scoite amach go sealadach. Socraítear an wafer agus tugtar isteach na réamhtheachtaithe faoi seach agus baintear iad sa seomra. Is féidir leis an modh seo an wafer a phróiseáil i dtimpeallacht níos cothroime, rud a fheabhsóidh na torthaí, mar shampla rialú níos fearr ar raon na toisí criticiúla. Léaráid scéimreach de ALD Temporal is ea an figiúr thíos.

Stop comhla, comhla dhúnadh. Úsáidtear go coitianta i，oidis, a úsáidtear chun an comhla a dhúnadh go dtí an caidéal folúis, nó an comhla stad a oscailt go dtí an caidéal folúis.

Réamhtheachtaí, réamhtheachtaí. Tá dhá cheann nó níos mó, gach ceann acu ina bhfuil na heilimintí den scannán taiscthe inmhianaithe, asaithe ar dhromchla an tsubstráit gach re seach, gan ach réamhtheachtaí amháin ag an am, neamhspleách ar a chéile. Sáraíonn gach réamhtheachtaí dromchla an tsubstráit chun monolayer a dhéanamh. Is féidir an réamhtheachtaí a fheiceáil san fhigiúr thíos.

Purge, ar a dtugtar íonú freisin. Gás coiteann, gás purge.sil-leagan ciseal adamhachIs modh é chun scannáin tanaí a thaisceadh i sraitheanna adamhacha trí dhá imoibrí nó níos mó a chur isteach i seomra imoibriúcháin chun scannán tanaí a dhéanamh trí dhianscaoileadh agus asú gach imoibreora. Is é sin, cuirtear an chéad ghás imoibriúcháin ar fáil ar bhealach bíogach chun taisce go ceimiceach taobh istigh den seomra, agus baintear an gás imoibriúcháin iarmharach iarmharach go fisiciúil trí ghlanadh. Ansin, cruthaíonn an dara gás imoibriúcháin banna ceimiceach leis an gcéad ghás imoibriúcháin i bpáirt tríd an bpróiseas cuisle agus purge, rud a thaisceann an scannán inmhianaithe ar an tsubstráit. Is féidir purge a fheiceáil san fhigiúr thíos.

Timthriall. Sa phróiseas sil -leagan ciseal adamhach, tugtar timthriall ar an am le gach gás imoibriúcháin a phulsed agus a ghlanadh uair amháin.

Ciseal Adamhach Epitaxy.Téarma eile le haghaidh sil -leagan ciseal adamhach.

Trimethylaluminum, giorraithe mar TMA, trimethylaluminum. I sil-leagan ciseal adamhach, is minic a úsáidtear TMA mar réamhtheachtaí chun Al2O3 a fhoirmiú. De ghnáth, foirmíonn TMA agus H2O Al2O3. Ina theannta sin, foirm TMA agus O3 Al2O3. Is léaráid scéimreach é an figiúr thíos de sil-leagan ciseal adamhach Al2O3, ag baint úsáide as TMA agus H2O mar réamhtheachtaithe.

3-aminopropyltriethoxysilane, dá ngairtear aptes, 3-aminopropyltrimethoxysilane. Le linnsil-leagan ciseal adamhach, Is minic a úsáidtear Aptes mar réamhtheachtaí chun SiO2 a fhoirmiú. De ghnáth, foirm Aptes, O3 agus H2O SiO2. Is é an figiúr thíos léaráid scéimreach de aptes.