Nuacht

Agus criostail chomhdhúile sileacain (SiC) á bhfás tríd an modh Iompar Gaile Fisiciúil (PVT), is “claíomh dúbailte-imeall” í an mhórtheocht ard 2000–2500 °C – cé go dtiomáineann sé sublimation agus iompar bunábhar, cuireann sé go mór le scaoileadh eisíontais ó gach ábhar laistigh den chóras réimse teirmeach, go háirithe comhpháirteanna riandúile. Chomh luath agus a théann na neamhíonachtaí seo isteach sa chomhéadan fáis, déanfaidh siad damáiste díreach do chroí-chaighdeán an chriostail. Is é seo an chúis bhunúsach a bhfuil bratuithe chomhdhúile tantalam (TaC) tar éis éirí mar “rogha éigeantach” seachas mar “rogha roghnach” maidir le fás criostail PVT.

Ag Veteksemicon, déanaimid na dúshláin seo a láimhseáil go laethúil, ag díriú go speisialta ar ardcheirmeacht Ocsaíd Alúmanam a athrú go réitigh a chomhlíonann sonraíochtaí cruinne. Tá sé ríthábhachtach na modhanna ceart meaisínithe agus próiseála a thuiscint, toisc go bhféadfadh dramhaíl costasach agus teip comhpháirteanna a bheith mar thoradh ar an gcur chuige mícheart. Déanaimis iniúchadh ar na teicnící gairmiúla a fhágann gur féidir é seo a dhéanamh.

Is beart próisis éifeachtach é CO₂ a thabhairt isteach san uisce dísle le linn bearradh sliseog chun tógáil luchta statach a chosc agus riosca éillithe a laghdú, rud a fheabhsóidh toradh dísle agus iontaofacht fadtéarmach sliseanna.