Cumhdach TAC Súbóir Pláinéadach

I réimse na déantúsaíochta leathsheoltóra, tá ról ríthábhachtach ag an gcuairteoir pláinéadach TAC. Úsáidtear é go forleathan i bhfás sraitheanna eipideacha cairbíde sileacain (SIC) i dtrealamh mar chóras Aixtron G5. Ina theannta sin, nuair a úsáidtear é mar dhiosca seachtrach i sil -leagan sciath Tantalum Carbide (TAC) le haghaidh Epitaxy SIC, soláthraíonn an Suscor Optional Planerary Tac tacaíocht agus cobhsaíocht riachtanach. Cinntíonn sé sil-leagan aonfhoirmeach an chiseal cairbíde tantalum, ag cur le bunú sraitheanna epitaxial ardcháilíochta le moirfeolaíocht dromchla den scoth agus le tiús scannán atá ag teastáil. Cuireann táimhe cheimiceach an TAC cosc ​​ar fhrithghníomhartha agus ar éilliú nach dteastaíonn, ag cothabháil sláine na sraitheanna eipidéimeacha agus ag cinntiú a gcaighdeán is fearr.

Cumasaíonn seoltacht theirmeach eisceachtúil an TAC aistriú teasa éifeachtach, ag cur dáileadh teochta aonfhoirmeach chun cinn agus ag íoslaghdú strus teirmeach le linn an phróisis fáis eipiciúil. Is é an toradh a bhíonn air seo ná go dtáirgtear sraitheanna epitaxial SIC ardcháilíochta le hairíonna crystallographic feabhsaithe agus le seoltacht leictreach feabhsaithe.

Mar gheall ar na toisí beachta agus an tógáil láidir ar dhiosca pláinéadach sciath TAC, tá sé éasca é a chomhtháthú i gcórais atá ann cheana féin, ag cinntiú comhoiriúnacht gan uaim agus oibriú éifeachtach. Cuireann a fheidhmíocht iontaofa agus a sciath TAC ardcháilíochta le torthaí comhsheasmhacha agus aonfhoirmeacha i bpróisis epitaxy SIC.

Iontaobhas Vetek Semiconductor agus ár ndiosca pláinéadach sciath TAC le haghaidh feidhmíocht agus iontaofacht eisceachtúil i SIC Epitaxy. Taithí a fháil ar na buntáistí a bhaineann lenár réitigh nuálacha, ag cur tú chun tosaigh i ndul chun cinn teicneolaíochta sa tionscal leathsheoltóra.