Pláta uainíochta sciath tac

Tá comhdhéanamh íonachta ard, ábhar neamhíonachta de níos lú ná 5ppm, agus struchtúr dlúth agus aonfhoirmeach, a úsáidtear go forleathan i gcórais LPE EPI, córais AIXTRON, córais nuflare, córais TEL CVD, córais VEECO, córais TSI ag pláta uainíochta TAC Vetek Semiconductor.

● Airíonna meicniúla den scoth:

Cruas sciath suas go 2300HV, le friotaíocht den scoth.

Tá an greamaitheacht idir an sciath agus an tsubstráit láidir, agus níl sé éasca titim amach nó craiceann.

Is féidir leis an sciath cobhsaíocht struchtúrach maith a choinneáil fós ag teocht ard.

●  Friotaíocht creimthe den scoth:

Tá cobhsaíocht cheimiceach den scoth agus friotaíocht creimthe ag ábhar TAC féin.

Feidhmíonn bratuithe Vetek Semiconductor go maith i dtimpeallachtaí gáis ionsaitheach éagsúla.

Is féidir leis na comhpháirteanna inmheánacha den trealamh a chosaint go héifeachtach ó dhamáiste creimthe.

● Críochnú dromchla ard:

Úsáideann Vetek Semiconductor próiseas brataithe beacht chun an bailchríoch inmhianaithe a tháirgeadh.

Cabhraíonn garness dromchla íseal le carnadh na gcáithníní agus sil -leagan a laghdú.

● Tá comhsheasmhacht sciath go maith:

Tá córas rialaithe cáilíochta fuaime ag Vetek Semiconductor chun feidhmíocht chomhsheasmhach a chinntiú idir baisceanna.

Déantar an tiús sciath a dháileadh go cothrom agus níl aon lochtanna áitiúla soiléire ann.

● Feidhmíocht feidhmithe praiticiúil den scoth:

Úsáidtear sciath TAC Vetek Semiconductor go forleathan i go leor monaróirí trealaimh epitaxial aitheanta sa bhaile agus thar lear.

Táirge Paraiméadar Fisiciúil an Phláta Rothlaithe Brataithe TAC:

Cumhdach Carbide Tantalum ar thrasghearradh micreascópach