Táirgí
Nítríde Alúmanam (AlN) Chuck Leictreastatach Ceirmeach
  • Nítríde Alúmanam (AlN) Chuck Leictreastatach CeirmeachNítríde Alúmanam (AlN) Chuck Leictreastatach Ceirmeach

Nítríde Alúmanam (AlN) Chuck Leictreastatach Ceirmeach

Is ardáin clampála sliseog ard-teirmeach-seoltóra iad VeTek Alúmanam Nitride Ceirmeacha Chucks (ESCanna) a innealtóireacht d'uirlisí próiseas leathsheoltóra a éilíonn rialú teochta beacht, sealúchas leictreastatach cobhsaí, agus giniúint ísealcháithníní. Déanta as criadóireacht AlN ard-íonachta, seachadann na chucks seo scaipeadh teasa den scoth, insliú ard leictreach, agus clampáil iontaofa Coulomb nó Johnsen-Rahbek do phróisis wafer 150 mm, 200 mm, agus 300 mm.
    Rátáil: 5.0
    (Comhaireamh Rátála: 1)

    1.Buntáistí

    • Ceirmeach AlN ard-íonachta le seoltacht teirmeach suas le ~ 180 W/m·K le haghaidh aistriú teasa éifeachtach agus aonfhoirmeacht teochta

    • Insliú láidir leictreach agus friotachas ardtoirte a thacaíonn le clampáil chobhsaí ag 1–3 kV (voltas níos airde ar fáil)

    • Ábhair ciseal tréleictreach saincheaptha agus leagan amach leictreoidí: Coulomb nó Johnsen-Rahbek (JR); singil nó il-chrios

    • Feidhmíocht clampála tapa agus dí-chlamp, go hiondúil faoi 0.1 soicind

    • Microstruchtúir dimple dromchla síos go dtí trastomhas ~ 300 μm, ag laghdú achar teagmhála chomh híseal le ~ 1%

    • Cumas maoile ard; maoile tipiciúil domhanda ar ord 0.5–3 μm PV le haghaidh ardáin ranga 300 mm

    • Micreastruchtúr dlúth le hionsú uisce gar-nialas agus friotaíocht maith ceimiceach le haghaidh timpeallachtaí próisis

    2.Feidhmchláir tipiciúla

    Úsáidtear Chucks Leictreastatacha Ceirmeacha Nítríde Alúmanam i gcéimeanna próisis a éilíonn coinneáil wafer slán agus iompar teirmeach rialaithe:

    • etch plasma tirim (ICP / RIE) agus próisis ghaolmhara aireagail

    • CVD, PEALD, teirmeach ALD, agus céimeanna eile sil-scannán tanaí

    • Modúil próisis annealing agus teirmeach a éilíonn teocht aonfhoirmeach wafer

    • Céimeanna iniúchta, méadreolaíochta, agus beachtas ina bhfuil clampáil ísealcháithníneach agus cobhsaí ríthábhachtach

    3.Gráid Ábhar AlN – Airíonna tipiciúla

    Tairgeann VeTek gráid éagsúla Nítríde Alúmanam chun seoltacht teirmeach, neart meicniúil, agus costas dearaí ESC a chothromú:

    Maoin

    AIN-HC95

    AIN-HP95

    AIN99

    AIN999

    AIN-HP999

    AIN-HP999LR

    Dath

    Liath

    Liath

    Liath

    Liath

    Liath

    Liath

    Íonachta

    ≥95%

    ≥95%

    ≥99%

    ≥99.9%

    ≥99.9%

    ≥99.9%

    Dlús (g/cm³)

    3.3

    3.3

    3.3

    3.2

    3.3

    3.3

    Ionsúite Uisce (%)

    0

    0

    0

    0

    0

    0

    Cruas HV (GPa)

    10

    10

    10

    10

    10

    10

    Neart Solúbtha (MPa)

    380

    400

    350

    310

    360

    310

    Modal Leaisteacha (GPa)

    320

    300

    300

    300

    300

    300

    Toughness Briseadh

    3

    3.4

    3

    2.8

    2.3

    3.3

    CTE (×10⁻⁶/°C)

    4.6

    5.7

    5.2

    5.5

    5.7

    5.4

    Seoltacht Theirmeach

    180

    180

    100

    90

    90

    90

    Turraing Teirmeach (°C)

    400

    500

    —

    —

    350

    —

    Neart Tréleictreach

    16

    16

    —

    16

    —

    —

    Friotaíocht Toirte

    1×10¹⁴

    1×10¹

    1×10¹

    —

    1×10¹

    Inchoigeartaithe

    Tairiseach Tréleictreach

    8.6

    8.6

    8.5

    8.5

    —

    —

    Aonaid: Seoltacht theirmeach i W/(m·K); neart tréleictreach i kV/mm; friotachas toirte ina Ω·cm (25 °C); tairiseach tréleictreach ag 1 MHz. Is gnách luachanna agus d’fhéadfadh go n-athróidh siad de réir céimseata próisis agus páirteanna.

    4.Paraiméadair Deartha tipiciúla ESC

    Paraiméadar

    Luach / Raon Tipiciúil

    Ábhar ceirmeach

    Nítríd alúmanaim (AlN)

    Cineál ESC

    Coulomb / Johnsen – Rahbek (JR)

    Leagan amach leictreoid

    Aonair nó il-chrios

    Bealach déantúsaíochta

    Brú te (AlN is fearr le haghaidh gráid ard-TC)

    Clamp / dí-clamp am

    < 0.1 s (tipiciúil)

    Trastomhas dimple (nóiméad.)

    ~300 μm

    Réimse teagmhála (le dimples)

    Is féidir é a laghdú go ~1%

    Maoile dhomhanda (rang 300 mm)

    ~0.5–3 μm PV (tipiciúil)

    Voltas clampála

    1–3 kV caighdeánach; dearaí >15 kV indéanta

    5.Cén fáth Choose VeTek AlN Chucks Leictreastatach?

    Comhtháthaíonn VeTek Semiconductor criadóireacht AlN chun cinn le déantúsaíocht ESC beachtas do chustaiméirí leathsheoltóra a bhfuil feidhmíocht theirmeach agus clampáil iontaofa de dhíth orthu:

    • Ilghráid AlN le seoltacht theirmeach ó ~90 go ~180 W/m·K chun buiséid teirmeach próisis a mheaitseáil

    • Leictreoid solúbtha agus dearadh tréleictreach le haghaidh iompar clampála Coulomb nó JR

    • Rialú daingean ar Maoile, ar mhicreastruchtúr dromchla, agus ar fheidhmíocht inslithe leictreach

    • Tacaíocht saolré iomlán: dearadh, tógáil nua, agus athchóiriú il-leibhéil

    Le haghaidh eitse, teistíocht, agus uirlisí teirmeacha a bhraitheann ar theocht aonfhoirmeach wafer agus ar chlampáil ghlan, in-athdhéanta, soláthraíonn VeTek Chucks Leictreastatach Ceirmeacha Nítríde Alúmanam VeTek ardán ceirmeach ardfheidhmíochta le tacaíocht innealtóireachta atá dírithe ar iarratais.

    Seol Fiosrúchán
    Eolas teagmhála
    For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
    Rátáil:
    5.0
    X
    Úsáidimid fianáin chun eispéireas brabhsála níos fearr a thairiscint duit, chun anailís a dhéanamh ar thrácht an tsuímh agus chun inneachar a phearsantú. Trí úsáid a bhaint as an suíomh seo, aontaíonn tú lenár n-úsáid a bhaint as fianáin. Beartas Príobháideachta
    DiúltaighGlac