Fáinne Dírithe Eitseála Soladach SiC

Tá dul chun cinn mór déanta ag Vetek Semiconductor i dteicneolaíocht SIC soladach CVD agus tá sé in ann fáinne soladach SIC a tháirgeadh ag díriú ar leibhéal an domhain. Is éard atá i bhfáinne fócasaithe soladach SIC Vetek Semiconductor ná táirge ábhair cairbíde sileacain íonachta ard-ard a cruthaíodh tríd an bpróiseas sil-leagain cheimiceach.

Úsáidtear fáinne fócasaithe eitseála soladach SiC i bpróisis déantúsaíochta leathsheoltóra, go háirithe i gcórais eitseála plasma. Is comhpháirt ríthábhachtach é an fáinne fócais SiC a chuidíonn le eitseáil beacht agus rialaithe de sliseog chomhdhúile sileacain (SiC) a bhaint amach.

Le linn an phróisis eitseála plasma, imríonn an fáinne fócais róil iolracha mar a leanas:

● Ag díriú an phlasma: Cuidíonn an fáinne dírithe ar eitseáil soladach SIC leis an bplasma a mhúnlú agus a dhíriú timpeall an tsliocht, ag cinntiú go dtarlaíonn an próiseas eitseáil go haonfhoirmeach agus go héifeachtúil. Cabhraíonn sé leis an bplasma a theorannú don limistéar inmhianaithe, ag cur cosc ​​ar eitseáil fáin nó damáiste do na réigiúin máguaird.

●  Na ballaí seomra a chosaint: Feidhmíonn an fáinne dírithe mar bhac idir an plasma agus na ballaí seomra, rud a choisceann teagmháil dhíreach agus damáiste féideartha. Tá SIC an -fhrithsheasmhach in aghaidh creimeadh plasma agus cuireann sé cosaint den scoth ar fáil do na ballaí seomra.

●  Trialú teochta. Cabhraíonn sé le teas a dhíscaoileadh agus cuireann sé cosc ​​ar ghrádáin róthéamh nó teirmeach logánta a d'fhéadfadh difear a dhéanamh do na torthaí eitseáil.

Roghnaítear Soladach SiC le haghaidh fáinní a dhíriú mar gheall ar a chobhsaíocht theirmeach agus cheimiceach den scoth, a neart meicniúil ard, agus a fhriotaíocht ar chreimeadh plasma. Déanann na hairíonna seo ábhar oiriúnach do SiC do na coinníollacha deacra agus éilitheacha laistigh de chórais eitseála plasma.

Is fiú a thabhairt faoi deara gur féidir le dearadh agus sonraíochtaí na bhfáinní fócais a bheith éagsúil ag brath ar an gcóras eitseála plasma sonrach agus ar riachtanais an phróisis. Déanann VeTek Semiconductor cruth, toisí agus tréithe dromchla na bhfáinní fócasaithe a bharrfheabhsú chun an fheidhmíocht eitseála is fearr agus an fad saoil a chinntiú. Úsáidtear Soladach SiC go forleathan le haghaidh iompróirí wafer, susceptors, wafer caol, fáinní treorach, páirteanna le haghaidh próiseas eitseála, próiseas CVD, etc.