Iompróir sliseog brataithe SiC

Tá déantúsaíocht an sliseanna doscartha ó sliseog. Sa phróiseas ullmhúcháin wafer, tá dhá chroí-nasc: is é ceann amháin ullmhú an tsubstráit, agus is é an ceann eile cur i bhfeidhm an phróisis epitaxial. Is féidir an tsubstráit a chur go díreach isteach sa phróiseas déantúsaíochta wafer chun feistí leathsheoltóra a tháirgeadh, nó a fheabhsú tuilleadh tríd anpróiseas epitaxial. 

Is é atá i gceist le Epitaxy ná ciseal nua de chriostal aonair a fhás ar fhoshraith criostail amháin a próiseáladh go mín (gearrtha, meilt, snasú, etc.). Toisc go leathnóidh an ciseal criostail aonair nua -fhásta de réir chéim chriostal an tsubstráit, tugtar ciseal eipiciúil air. Nuair a fhásann an ciseal eipiciúil ar an tsubstráit, tugtar sliseog eipiciúil ar an iomlán. Réitíonn tabhairt isteach na teicneolaíochta epitaxial go leor lochtanna ar fhoshraitheanna aonair.

Sa foirnéis fáis epitaxial, ní féidir an tsubstráit a chur go randamach, agus aiompróir waferCeanglaítear air an tsubstráit a chur ar shealbhóir an tsleasa sular féidir sil -leagan eipiciúil a dhéanamh ar an tsubstráit. Is é an sealbhóir sliseog seo an t -iompróir sliseog brataithe SIC.

Radharc trasghearrtha ar an imoibreoir EPI

Ardchaighdeánsciath SiCcuirtear i bhfeidhm é ar dhromchla graifít SGL ag baint úsáide as teicneolaíocht CVD:

Le cabhair ó sciath SiC, tá go leor airíonna deSealbhóir wafer brataithe SiCfeabhsaithe go mór:

●  Airíonna frithocsaídeacha: Tá friotaíocht ocsaídiúcháin mhaith ag sciath SIC agus is féidir leis an maitrís graifíte a chosaint ó ocsaídiú ag teochtaí arda agus a shaol seirbhíse a leathnú.

● Friotaíocht ardteochta: Tá leáphointe an bhrataithe SiC an-ard (thart ar 2700°C). Tar éis sciath SiC a chur le maitrís graifíte, is féidir leis teochtaí níos airde a sheasamh, rud atá tairbheach le cur i bhfeidhm i dtimpeallacht foirnéise fáis epitaxial.

● Friotaíocht creimthe: Tá graifít seans maith le creimeadh ceimiceach i dtimpeallachtaí aigéadacha nó alcaileach áirithe, agus tá friotaíocht maith creimeadh aigéad agus alcaile ag sciath SiC, agus mar sin is féidir é a úsáid i bhfoirnéisí fáis epitaxial ar feadh i bhfad.

●  Caith friotaíocht: Tá cruas ard ag ábhar SIC. Tar éis graifít a bheith brataithe le SIC, ní dhéantar damáiste dó go héasca nuair a úsáidtear é i bhfoirnéis fáis eipiciúil, ag laghdú an ráta caithimh ábhair.

Baineann Vetek Semiconductor úsáid as na hábhair is fearr agus as an teicneolaíocht próiseála is úire chun táirgí iompróra wafer brataithe SIC a chur ar fáil do chustaiméirí. Tá foireann láidir teicniúil Vetek Semiconductor tiomanta i gcónaí na táirgí is oiriúnaí agus na réitigh is fearr do chustaiméirí a chur in oiriúint.

SEM SONRAÍ NA SCANNÁN CVD SIC

Leathsheoltóir VeTekSiopaí iompróra sliseog brataithe SIC