Má tá an Glacadóir EPI

Seo a leanas tabhairt isteach Susceptor Si Epi ardchaighdeáin, ag súil le cabhrú leat tuiscint níos fearr a fháil ar Barrel Type Si Epi Susceptor. Fáilte roimh chustaiméirí nua agus sean chun leanúint ar aghaidh ag comhoibriú linn chun todhchaí níos fearr a chruthú!

Is feiste speisialaithe é Imoibreoir Epitaxial a úsáidtear le haghaidh fáis epitaxial i ndéantúsaíocht leathsheoltóra. Soláthraíonn Barrel Type Si Epi Susceptor timpeallacht a rialaíonn teocht, atmaisféar agus paraiméadair lárnacha eile chun sraitheanna criostail nua a thaisceadh ar an dromchla wafer.

Is é an buntáiste is mó a bhaineann le Barrel Type Si Epi Susceptor ná a chumas il-sliseanna a phróiseáil ag an am céanna, rud a mhéadaíonn éifeachtacht táirgthe. Is iondúil go mbíonn ilfheisteas nó teanntáin aige chun il-sliseanna a shealbhú ionas gur féidir il-sliseog a fhás ag an am céanna sa timthriall fáis céanna. Laghdaíonn an ghné tréchur ard seo timthriallta agus costais táirgthe agus feabhsaíonn sé éifeachtacht táirgthe.

Ina theannta sin, cuireann an Barrel Type Si Epi Susceptor rialú teochta agus atmaisféar optamaithe ar fáil. Tá sé feistithe le córas rialaithe teochta chun cinn atá in ann an teocht fáis atá ag teastáil a rialú agus a chothabháil go beacht. Ag an am céanna, soláthraíonn sé rialú atmaisféar maith, ag cinntiú go bhfástar gach sliseanna faoi na coinníollacha atmaisféar céanna. Cuidíonn sé seo le fás ciseal epitaxial aonfhoirmeach a bhaint amach agus feabhas a chur ar cháilíocht agus comhsheasmhacht an chiseal epitaxial.

Sa chineál bairille Si epi soirneoir, is iondúil go mbaineann an tslis amach dáileadh teochta aonfhoirmeach agus aistriú teasa trí shreabhadh aeir nó sreabhadh leachtach. Cuidíonn an dáileadh teochta aonfhoirmeach seo le foirmiú spotaí te agus grádáin teochta a sheachaint, rud a fheabhsaíonn aonfhoirmeacht an chiseal eipiciúil.

Buntáiste eile is ea go soláthraíonn an Barrel Type Si Epi Susceptor solúbthacht agus scalability. Is féidir é a choigeartú agus a uasmhéadú le haghaidh ábhair epitaxial éagsúla, méideanna sliseanna agus paraiméadair fáis. Cuireann sé seo ar chumas taighdeoirí agus innealtóirí forbairt agus uasmhéadú próisis tapa a dhéanamh chun freastal ar riachtanais fáis epitaxial feidhmchlár agus riachtanais éagsúla.