Táirgí

Is tuaslagán ceannródaíoch é soirneoir brataithe CVD SIC VeteksemiMon do phróisis epitaxial leathsheoltóra, a thairgeann íonacht ard-ard (≤100ppb, ICP-E10 deimhnithe) agus cobhsaíocht theirmeach/cheimiceach eisceachtúil le haghaidh fás neamh-sheasmhach éillithe de GAN, SIC, agus silicon-layers. Cinntíonn sé le teicneolaíocht beachta CVD, tacaíonn sé le sliseoga 6 ”/8”/12 ”, cinntíonn sé an strus teirmeach íosta, agus seasann sé le teochtaí foircneacha suas go 1600 ° C.

Is croí -chomhpháirt é ár so -ghabhálaí optional brataithe SIC sa phróiseas ardteochta de dhéantúsaíocht leathsheoltóra. Comhcheanglaíonn a dhearadh foshraith graifíte le sciath cairbíde sileacain chun barrfheabhsú cuimsitheach a bhaint amach ar fheidhmíocht bhainistíochta teirmeach, cobhsaíocht cheimiceach agus neart meicniúil.

Is ábhair cheirmeacha póiriúla iad ár bplátaí ceirmeacha scagach Sic a dhéantar as cairbíd sileacain mar an phríomh -chomhpháirt agus a phróiseáiltear le próisis speisialta. Is ábhair fíor -riachtanach iad i ndéantúsaíocht leathsheoltóra, i sil -leagan gaile ceimiceach (CVD) agus i bpróisis eile.

Is comhpháirt rónta ardfheidhmíochta é ár bhfáinne rónta brataithe SIC le haghaidh epitaxy bunaithe ar chomhábhair graifíte nó carbóin charbóin atá brataithe le cairbíd sileacain ard-íonachta (SIC) ag sil-leagan gaile ceimiceach (CVD), a chomhcheanglaíonn cobhsaíocht theirmeach graifít le trealamh comhshaoil ​​an-chomhshaoil ​​(MOC, MOC agus Dearadh le haghaidh seimiceán.

Tá ár mbád Grianchloch ard -íonachta déanta as Grianchloch comhleáite (ábhar SiO₂ ≥ 99.99%). Agus a fhriotaíocht den scoth i leith timpeallachtaí tromchúiseacha, comhéifeacht leathnaithe teirmeach íseal, agus saolré fada, tá sé ina eochair inchaite inchaite sna tionscail leathsheoltóra agus fuinnimh nua.

Is é an fáinne fócais le haghaidh eitseáil an phríomhghné chun cruinneas agus cobhsaíocht an phróisis a chinntiú. Déantar na comhpháirteanna seo a chur le chéile go beacht i seomra folúis chun meaisínithe aonfhoirmeach struchtúr nanascála a bhaint amach ar dhromchla an tsliocht trí rialú beacht a dhéanamh ar dháileadh plasma, ar theocht imeall agus ar aonfhoirmeacht réimse leictreach.