Táirgí

Is comhpháirteanna cairbíde sileacain ard-íonachta, lán-dlúth iad gabhálais Solid SiC VeTek Semiconductor don ardán Aixtron G10-SiC atá deartha le haghaidh timpeallacht éilitheach teirmeach agus ceimiceach fáis epitaxial SiC. Seachadann na codanna seo cobhsaíocht ardteochta gan íoc, friotaíocht ceimiceach, agus giniúint cáithníní ultra-íseal, ag tacú le cumraíocht imoibreora pláinéadach ard-thréchur 9 × 150 mm / 6 × 200 mm a úsáidtear i ndéantúsaíocht feistí cumhachta.

Is seirbhís theicniúil speisialaithe é Seirbhís Glanadh Gairmiúil VETEK le haghaidh Páirteanna Grafite Brataithe CVD SiC atá deartha le haghaidh susceptors trealaimh Aixtron / Veeco MOCVD agus comhpháirteanna graifíte a úsáidtear i bpróisis epitaxial GaN / AlN / AlGaN. Cuireann ár bpróiseas glantacháin dílseánaigh deireadh le héifeacht cuimhne dromchla go críochnúil, athchóiríonn sé sreabhadh gáis cobhsaí san imoibreoir, agus cosnaíonn sé go docht an sciath 100 µm CVD SiC le caillteanas tiús nialasach iomlán agus iarmhar miotail nialasach.

Is comhpháirt tacaíochta sliseog ardfheidhmíochta é VETEK CVD SiC Susceptor Graifít Brataithe le haghaidh Iompróir Wafer atá deartha le haghaidh próisis epitaxy leathsheoltóra. Úsáideann an táirge graifít ard-íonachta mar an tsubstráit agus tá sé brataithe le ciseal aonfhoirmeach de chomhdhúile sileacain CVD (SiC), ag soláthar cobhsaíocht theirmeach den scoth, friotaíocht ceimiceach, agus rialú cáithníní. Mar chomhpháirt criticiúil susceptor graifít, tacaíonn sé go díreach le sliseog taobh istigh den seomra imoibrithe agus cabhraíonn sé a choimeád ar bun dáileadh teochta aonfhoirmeach agus cobhsaí coinníollacha fáis epitaxial.

Seachadann VeTek Semiconductor Púdar Carbíd Sileacain Ardíonachta Ard-Íonachta (SiC) de ghrád préimhe atá oiriúnaithe go sonrach le haghaidh Fás Criostail SiC ard-táirgeachta (próiseas PVT), táirgeadh substráit leathsheoltóra, agus ardcheirmeacht feidhme. Próiseáilte trí theicneolaíocht íonú ultra-ghlan, soláthraíonn ár n-amhábhar SiC ardíonachta leibhéil rian miotail thar a bheith íseal, feidhmíocht sublimation in-atáirgthe, agus cáilíocht bhaisc-go-bhaisc an-chomhsheasmhach chun freastal ar dhianriachtanais déantúsaíochta leathsheoltóra.

Déantar Bád Wafer Grianchloch Ardíonachta VETEK le haghaidh trealamh leathsheoltóra TEL a mhonarú as ábhar Grianchloch grád leathsheoltóra agus atá deartha le haghaidh láimhseáil wafer i bpróisis ardteochta mar idirleathadh, ocsaídiú, annealing, agus CVD. Le cobhsaíocht theirmeach den scoth, friotaíocht ceimiceach, agus tréithe éillithe íseal, soláthraíonn sé tacaíocht wafer iontaofa d'iarratais déantúsaíochta leathsheoltóra.

Is comhpháirt réimse teirmeach é Fáinne Graifíte Brataithe VETEK Porous TaC a innealtóireacht d'fhás criostail aonair SiC tríd an bpróiseas PVT (Iompar Fisiciúil Gal). Déantar é a tháirgeadh ó graifít scagach ard-íonachta agus brataithe le carbide tantalam (TaC) ag baint úsáide as teicneolaíocht CVD. Díríonn an dearadh ar chobhsaíocht ardteochta, athléimneacht cheimiceach, agus feidhmíocht rialaithe réimse teirmeach. Trí éilliú a íoslaghdú agus tacú le comhsheasmhacht próisis, cuireann an chomhpháirt seo le torthaí fáis criostail SiC in-atáirgthe.