CVD SIC COTHING EPITAXY SUPTORTOR

Is uirlis bheachtais-innealtóireachta é an Sustaxy CVD SIC Veteksemimon atá deartha le haghaidh próiseála sliseog leathsheoltóra. Tá ról ríthábhachtach ag an gclaontóir sciath SIC seo maidir le fás scannán tanaí, epilayers, agus bratuithe eile a chur chun cinn, agus is féidir leis an teocht agus na hairíonna ábhartha a rialú go beacht. Cuir fáilte roimh do chuid fiosruithe breise.

BunúsachAiríonna Fisiceacha CVD SIC Cuting:

Buntáistí Táirgí Socraithe CVD SIC Epitaxy:

● Sil -leagan beacht. Is féidir leis an seoltacht ard teirmeach (mar SIC thart ar 120 w/m · k) teas a aistriú go tapa agus dáileadh teochta aonfhoirmeach a chinntiú ar dhromchla an tsubstráit, rud a chuireann fás ardcháilíochta ar an gciseal eipiciúil chun cinn.

● Éilliú laghdaithe: Tá íonacht an -ard (ábhar neamhíonachta <5 ppm) ag an gclúdach SIC a ullmhaíonn an próiseas CVD agus tá sé an -fhrithsheasmhach in aghaidh gáis creimneach (mar shampla Cl₂, NH₃), ag seachaint éilliú an chiseal eipiciúil.

● Marthanacht.

Tá Veteksemimon tiomanta do tháirgí ardchaighdeáin agus praghsanna iomaíocha a sholáthar. Táimid ag tnúth le bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.

Sé leathsheoltóra Siopaí táirge: